LMP-2型立式金相试样磨抛机

产品时间：2023-10-20

简要描述：

主要特点: 在金相试样制备过程中，试样的预磨，是抛光前必不可少的前道工序，先将试样预磨光后，可大大提高试样制备的功效，LMP-2型立式金相试样磨抛机，是通过对多方面的调研和采集多方面使用人员的意见及要求设计而成，为适应更多材料预磨的需要，该机的磨盘直...

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详细介绍

主要特点: 在金相试样制备过程中，试样的预磨，是抛光前必不可少的前道工序，先将试样预磨光后，可大大提高试样制备的功效，LMP-2型立式金相试样磨抛机，是通过对多方面的调研和采集多方面使用人员的意见及要求设计而成，为适应更多材料预磨的需要，该机的磨盘直径大于国内同类产品，磨盘的转速也不同于国内产品，是试样预磨的***设备。
主要技术规格:
工作电压：380V50Hz （220V 50Hz订制）
研磨盘直径：φ200mm 转速450r/min
电动机：YC7124、370W.
外形尺寸：780x780x400mm; 重量：50kg

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